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PrA II

特殊顯微鏡

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縮小投影露光裝置 PrA II
 

作為磁氣頭的 ABS 加工用,很多的傲人實際成效,小型的,成本性能很高的投影方式的曝光裝置。

 


產品名稱:
透鏡縮小投影露光裝置 PrA II


可以由レチクル像的精密臨摹的細微模式形成的曝光裝置。
根據投影鏡頭光學系的新設計,高性能的曝光成為可能,能在各式各樣的領域當中使用。而且,由於組件設計,接受要求的版本升級容易。
ABS 加工用:在磁氣頭的 Row 上施行 ABS 加工,形成為了頭浮出控制的類型的曝光機(ABS:Air Bearing Surface )


TTR ※方式由高精確度調準
更加觀察時大大地轉換NA,使之提高著條準制度。※TTR :Through The Reticle
總計處理量大幅提高
階段高速化之外又加上,處理·控制的增加速度,最優化處理量大幅度提高了。
簡單操作
在 OS 上採用Windows XP ,實現良好的操作性。根據運算子模式、工程師模式的切換,從基本操作到高超的操作的學得容易。
以小型的的尺寸省空間
用小型的的尺寸實現高剛性,省空間也貢獻。
採用新設計的自動焦點方式
設置.立縮短時間
從設置立提高的時候,不需要特別的調整工作,能縮短時間,線引進容易。

曝光機本體
架台 超高壓水銀燈和照明光學系 網用台
觀察光學系 投影鏡頭 樣品用台 自動焦點裝置
架部
電腦、自動焦點控制器、鏡台驅動程式、馬達控制器
其他
超高壓水銀燈用電源(本體架的台下部設置)、電纜類


投影鏡頭倍率

- 1/5倍

NA

曝光時 0.125 ,調準時 0.3

作用距離

12mm

解析度

1.5μ

露光範圍

φ 7.0 m m 以內

露光波長

405 nm (中心波長)

大致尺寸

本體:85(W) × 136(D) × 199(H) cm 
質量(重量) 950 kg
架:57(W) × 81(D) × 217(H) cm 
質量(重量) 180 kg